高纯钼溅射靶材的发展现状
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- 分类：钼的知识
- 发布于 2017年3月06日
- 作者：qiongzhen
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随着电子及信息产业的突飞猛进的发展，对溅射靶材的需求越来越大。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及光伏电池等方面都得到了广泛的应用。因此，对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料的需求逐年增加，而且对其技术指标的要求也在不断的提升中。高纯钼溅射靶材是钼行业的新兴、高端产品，要求产品密度大、纯度高、组织均匀且生产工序长，具有很高的技术含量，能满足现有的溅射靶材的基本要求。该领域之前一直被奥地利的普兰西（Plansee）、德国的H.C斯达克（H.C Starck）和贺力氏（Heraeus）、日本的日立金属（Hitach Metal）等国际巨头所垄断。直至2012年我国某公司生产的太阳能成套高纯钼溅射靶材的成功交付，才打破国外巨头在该领域的相对垄断地位。但是，其所达到的技术指标与国际领先的水平依然有差距。
根据高纯钼溅射靶材的研究现状，可知国内高纯金属的提纯技术与工业发达国家的差距较大，目前国内提供的多数高纯金属，按照行业常规的全元素分析方法，还不能满足薄膜溅射技术对溅射靶材的质量要求。靶材中夹杂物的数量过多或分布不均，在溅射过程中常在晶圆上形成微粒，导致溅射厚度不均匀或溅射效率较低，严重影响薄膜性能。因此对于国内而言，发展高纯的钼溅射靶材任重而道远。
总之，平面显示器和光伏行业的快速发展，极大地带动了高纯钼溅射靶材的市场需求量。但是怎样解决目前高纯钼溅射靶材制作过程中存在的大尺寸钼溅射靶材难以制备，靶材利用率较低、溅射过程中的微粒飞溅等问题，为国内外用户提供高质量的溅射靶材，是摆在国内材料工作者面前的现实问题。因此，提高我国高纯钼溅射靶材的产业竞争力，需要国家高度的重视并采取合理措施，如相应的政策支持、重视人才的培养和设备的更新换代以及加强其基础和应用研究等。
高纯钼溅射管靶材
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