一种管状钼合金溅射靶材的热等静压制备方法
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- 分类：钼的知识
- 发布于 2017年3月03日
- 作者：qiongzhen
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钼合金溅射靶材具有高温强度，良好的导电、导热和低的热膨胀系数（与电子管用玻璃相近）外，还拥有较钨易于加工的优势，因此常制成各种不同规格的合金溅射靶材，如板状钼合金溅射靶材、管状钼合金溅射靶材、圆型钼合金溅射靶材等。以下介绍一种管状钼合金溅射靶材的热等静压（Hot Isostatic Pressing，简称HIP）制备方法。热等静压技术优点在于集热压和等静压的优点于一身，成形温度低，产品致密，性能优异，故是高性能材料制备的必要手段。其制备的具体步骤如下：
1）根据所要制备的管状钼合金溅射靶材的设计要求制作热等静压包套；
2）将钼合金粉末装入热等静压包套中；
3）将步骤2中装有钼合金粉末的热等静压包套的抽气口连接真空泵，然后置于马弗炉中，在真空度不大于5×102Pa，温度为150℃～400℃的条件下真空热处理0.5h～4h，自然冷却后焊封抽气口将芯材套装热等静压包套内，然后进行热等静压成型；
4）将芯材套装热等静压包套内，然后进行热等静压成型，随炉冷却后去除芯材，从热等静压包套中取出成型产品，得到管状钼合金溅射靶材。
该方法制得的管状钼合金溅射靶材工艺简单，材料种类和合金成分几乎不受限制，它的成分均匀、无可见偏析，钯管与衬管之间结合紧密，晶粒细小、纯度高，能够满足液晶显示和触控屏行业要求。
管状钼合金溅射靶材
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