TZM合金的抗氧化性能

TZM 合金片

TZM合金具有良好的高温力学性能,但是在高温下其抗氧化性能极差,无法生成保护自己的氧化层,因此在高温下必须在无氧化的气氛中使用。当温度低于400℃,TZM合金的氧化速率很慢,合金表面生成了不易挥发的MoO2。当温度在400~750℃之间,氧化速率变快,合金表面生成易挥发的MoO3。当温度高于750℃,由于MoO3挥发,氧化增重急剧下降。

改善合金抗氧化性能的方法通常有两种,一种是合金化法,另一种是涂层法。合金化不能提供足够的高温抗氧化性能,因而较为常用的方法为涂层法。

涂层有许多的制备工艺,其中包埋渗法具有成本低、易于控制、结合力强等优点,因而被广泛应用。采用包埋渗法对TZM合金进行涂层,一般选择Al粉为涂层材料,以NH4Cl为催化剂、Al2O3为填料。其中涂层生长的最佳工艺参数为tm(Al2O3):m(Al):m(NH4Cl)=7:2:1,1000℃,12h。

通过观察XDR结果发现,涂层由Al5Mo、Al2Mo和Al2(Mo43等相组成,靠近基体涂层的厚度约为30um,且平均Al含量较低。外层涂层厚度约为20um,平均Al含量较高。TZM合金在涂层的保护下,操作的10h内,氧化速率非常快。10~50h内,氧化速率组件变缓,因为反应生成的Al2O3层具有较好的保护作用,能够防止氧化进一步发展。说明,涂层法可以很好的提高合金的抗氧化性能。

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