蓝宝石衬底异质外延生长

氮化镓磷化物(GaN1-XPX)外延淀积在蓝宝石衬底上的镓的BR2-NH 3-PH3-N2体系的气相反应。结果发现,该组蓝宝石衬底合物的x和GaN1-XPX单晶的生长速率在很大程度上取决于衬底温度和PH 3的流速引入到反应管中。的组分x的增加而降低衬底的温度。所获得的最大组分x为0.064在1000degC的衬底温度。生长速率的增加而PH3的增加流速引入到反应管中。在1030degC的衬底温度,GaN1-XPX的生长率(X≈0.05)显​​着高于GaN构成较大的22倍。在GaN1-XPX单晶的背反射发散光束图案中观察到的衍射线是广泛的,并没有显示出分离,由于Kα1和Kα2射线。

一贯低位错密度midwavelength红外线(X = 0.31)液相外延碲镉汞具有优良的形态的外延层,使用一种新的低温(420℃),碲熔融过程上生长2英寸蓝宝石衬底(PACE-1)。表面腐蚀坑密度(EPD的)之间的5×105和9×使用先前报道的化学蚀刻。剖环保署访问揭示更迅速降低的缺陷从所述CdTe缓冲层的界面相比,传统方法种植的(500℃)的材料。 X射线摇摆曲线宽度从43到66弧秒进行常规观察。 77 K时电子迁移率高达51 000 cm2/V-s进行了测定。二次离子质谱分析法剖面显示的最小杂质的吸杂在碲镉汞/ CdTe的缓冲层界面。


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