钼溅射靶材市场前景广阔
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- 分类:钼业新闻
- 发布于 2013年8月22日
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钼具有高熔点、高电导率、较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能,使得钼溅射靶可在各类基材上形成薄膜,这种溅射薄膜广泛应用于电子部件和电子产品,如目前广泛应用的TFT-LCD(thin film transitor-liquidcrystal displays,薄膜半导体管-液晶显示器)、等离子显示屏、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置等等,其市场前景十分广阔。在平面显示器行业中,钼溅射靶材主要应用于TFT-LCD 领域。市场研究表明,未来几年LCD 仍将快速发展,预计LCD 溅射靶材的消费量年增长率约为20%。
此外,随着新能源行业的发展,钼溅射靶在薄膜太阳能光伏电池上的应用也日益增加,钼溅射靶材主要通过溅镀形成CIGS(铜铟镓硒)薄膜电池电极层。总之,平面显示器和光伏行业的快速发展,极大地带动了钼溅射靶材的市场需求量。
盈利预测与投资评级
维持“买入” 公司成功交付钼溅射靶材,打破了国外巨头在该领域的相对垄断地位,延伸了公司高附加值产业链,为进一步的市场开拓奠定良好基础。维持公司“买入”投资评级。
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