研究人员用二硫化钼发出一种半导体
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- 分类：钼业新闻
- 发布于 2013年5月23日
- 作者：CCJ
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在北卡罗莱纳州立大学的研究人员已经开发出一种新技术，创造高品质的半导体薄膜在原子尺度-这意味着电影是只有一个原子厚。该技术可用于创建这些薄膜进行了大规模的，足以大衣晶片的两英寸宽或更大， 这可以被用来按比例下降到目前的半导体技术在原子尺度-激光器，发光二极管（发光二极管），电脑芯片，任何东西，说：“的麟游曹博士，材料科学与工程助理教授在北卡罗来纳州和资深作者的工作的一纸。“人们一直在谈论这个概念很长一段时间，但是这是不可能的。有了这个发现，我认为这是可能的。“ 研究人员曾与硫化钼（MoS2），三廉价的半导体材料，具有电子和光学特性，已在半导体行业中使用的材料相似。然而，二硫化钼（MoS2）是其它半导体材料的不同，因为它可以“生长”在不损害其性能的情况下只有一个原子厚的层， 在新技术中，研究人员硫和氯化钼粉末放置在炉中，逐渐升温到850度摄氏温度，蒸发粉末。这两种物质在高温下发生反应，形成二硫化钼。蒸汽，同时仍然在高温下，然后淀积到衬底上的一薄层。
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