纯钼和高纯钼的区别

高纯钼是指大规模集成电路的发展提出力应用钨、钼作为其布线材料、阻挡层及门材料等的要求。主要用作钼靶和硅化钼靶材、半导体和配线材料,以及其他高新技 术用材,还用于火箭喷嘴、催化剂、化学试剂等。这类材料要求极高的纯度(至少达到5N或者6N),因此材料的制取需要化学和物理的特殊纯化处理。目前国外 已由研究阶段发展进入工业应用阶段,国内还处于研究的初级阶段。

纯钼是指包括烧结的钼制品(如坩埚等)及一般应用的加工钼板、钼棒、钼带、钼丝、钼片及异形材等,它们仍是铝材应用的主要形式,并占铝材应用的很大比例。钼是富线元素,高纯钼中杂质元素的灵敏线大多受钼线干扰,虽然ICP-AES是高纯钼中杂质元素测定的最有效方法之一,但实际应用中有较大难度,因此,推广该技术在高纯钼杂质测定方法是很有意义的。

 

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