提高钼溅射靶材的利用率方法

钼溅射靶材可在各类器材上形成薄膜,这种溅射膜被广泛用作电子部件和电子产品,如广泛应用的TFT—LCDTFT-LCD(thin film transitor-liquidcrystal displays,薄膜半导体管-液晶显示器)、等离子显示屏、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置等等。研究表明,未来几年LCD 仍将快速发展,钼溅射靶材市场前景十分广阔,钼溅射靶材的需求量将不断的增加,钼溅射靶材的利用率提出了更高的要求。

提高钼溅射靶材的利用率的方法,有以下两点:

一、实现溅射设备的更新换代
钼溅射靶材在溅射过程中靶材原子被氢离子撞击出来后,约由六分之一的溅射原子会淀积到真空室内壁或支架上,增加清洁真空设备的费用及停机时间。因此,提高靶材利用率的关键在于实现溅射设备的更新换代。

二、管状旋转靶材代替平面靶材
相比平面靶材,采用管状旋转靶材结构的设计显示出它的实质性优势,在几何结构设计上,利用率从平面靶的30%~50%可增加到旋转靶的>80%。并且,由于旋转靶在溅射过程中不断旋转,所以它的表面不会产生重沉积现象。

钼溅射管靶材图片
钼溅射管靶材

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