提高钼溅射靶材的利用率方法
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- 分类：钼的知识
- 发布于 2017年3月08日
- 作者：qiongzhen
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钼溅射靶材可在各类器材上形成薄膜，这种溅射膜被广泛用作电子部件和电子产品，如广泛应用的TFT—LCDTFT-LCD（thin film transitor-liquidcrystal displays，薄膜半导体管-液晶显示器）、等离子显示屏、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置等等。研究表明，未来几年LCD 仍将快速发展，钼溅射靶材市场前景十分广阔，钼溅射靶材的需求量将不断的增加，钼溅射靶材的利用率提出了更高的要求。
提高钼溅射靶材的利用率的方法，有以下两点：
一、实现溅射设备的更新换代
钼溅射靶材在溅射过程中靶材原子被氢离子撞击出来后，约由六分之一的溅射原子会淀积到真空室内壁或支架上，增加清洁真空设备的费用及停机时间。因此，提高靶材利用率的关键在于实现溅射设备的更新换代。
二、管状旋转靶材代替平面靶材
相比平面靶材，采用管状旋转靶材结构的设计显示出它的实质性优势，在几何结构设计上，利用率从平面靶的30%~50%可增加到旋转靶的>80%。并且，由于旋转靶在溅射过程中不断旋转，所以它的表面不会产生重沉积现象。
钼溅射管靶材
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