钼离子注入对金刚石附着性能的影响
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- 分类：钼的知识
- 发布于 2017年3月08日
- 作者：qiongzhen
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随着化学气相沉积（CVD）金刚石薄膜生长技术的发展，人们对金刚石薄膜的应用研究也日益重视。目前，在金刚石涂层与硬质合金刀具中存在的主要问题是金刚石与硬质合金刀具之间的附着力较差。而钼离子的注入能够较好的改善这种情况。钼离子对金刚石附着性能产生以下几个方面的影响：
1）提高金刚石涂层的形核密度，增大涂层与基体之间的实际接触面积。钼离子注入对基体的轰击和注入效应，可使基体表层的晶格发生畸变，在表面产生大量均匀分布的微缺陷，从而提高金刚石涂层的形核密度。
2）钼离子注入后，基体表层的Mo能与扩散而至的Co形成稳定的化合物CoMoO3，抑制了单质Co的催石墨化作用。
3）钼离子注入能使部分钼离子镶嵌在硬度合金基体表面，这些钼离子在金刚石形核初期被碳化，从而在界面处形成Mo—C键，进一步提高金刚石涂层的附着力。
CVD金刚石
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