热处理温度对钼靶材微观组织和性能的影响
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- 分类：钼的知识
- 发布于 2017年2月27日
- 作者：qiongzhen
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由于钼是一种高熔点（2620℃）金属，热处理温度对钼靶材微观组织和性能也有很大的影响。具体为以下几点：
1、变形量相同的钼靶材，在1050℃~1300℃经1h热处理之后均发生了再结晶，随着热处理温度的升高，钼靶材再结晶晶粒尺寸逐渐增大，发现经1200℃热处理的靶材的晶粒尺寸分布最均匀，长径比一致性最佳，有利于在溅射镀膜时获得较高的溅射速率；
2、钼靶材的硬度均值在250~272HV，而靶材硬度随热处理温度的升高呈下降趋势，在经1200℃热处理的靶材具有最佳的磁控溅射放电性能。
所以，热处理温度在1200℃最佳，有利于获得较高质量的钼靶材。
钼靶材
钼管靶材
钼靶材
钼靶材
钼圆靶材
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