钼溅射靶材
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- 分类：钼的知识
- 发布于 2017年2月24日
- 作者：qiongzhen
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钼溅射靶材主要用于平面显示器、薄膜太阳能电池的电极和配线材料以及半导体的阻挡层材料。溅射是利用气体放电产生的正离子在电场作用下高速轰击阴极靶，使靶材中的原子（或分子）逸出而淀积到被镀衬底（或工件）的表面，形成所需要的薄膜，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。溅射法与蒸发法一样，也是一种重要的薄膜制备方法。钼溅射靶材可在各类基材上形成薄膜，这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品。这些都是基于钼的高熔点、高电导率、较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能。高纯度是对钼溅射靶材的一个基本特性要求，钼靶材的纯度越高，溅射薄膜的性能越好。
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