钼溅射靶材的简介
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- 分类：钼的知识
- 发布于 2013年1月24日
- 作者：CCJ
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我们拥有热轧机和冷轧机，可以提供钨，钼靶材厚度为0.2毫米至20毫米。具有非常好的性能，这些产品可用于生产电极，加热器，屏蔽件等。
钼溅射靶材又称钼靶材，可用于常用的X射线管的X射线屏蔽。
钼溅射靶材，即钼靶材，通常由钼粉经烧结而成。多数情况下，它是由阳极本身就是烧结钼粉制成，目标是由阳极所形成的。阳极可以是固定式或旋转阳极。其他的标准方法，化学气相沉积，或者再次，当焦点在一个旋转阳极的情况下，电解沉积启用了钼层沉积在阳极，沿着一条轨道，以形成对整个阳极表面或表面上这个目标的一部分。
钼溅射靶材
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材料 |
纯度 |
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钼溅射靶材 2"D X .125"T |
99.95% |
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钼溅射靶材 2"D X .250"T |
99.95% |
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钼溅射靶材"D X .125"T |
99.95% |
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钼靶材3"D X .250"T |
99.95% |
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钼靶材 4"D X .125"T |
99.95% |
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钼靶材 4"D X .250"T |
99.95% |
其它尺寸也可。
钼产品详情查阅：http://www.molybdenum.com.cn
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