在藍寶石襯底上氧化鋅薄膜的壓電性能沉積的射頻磁控模式ECR濺射系統
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- 分類：藍寶石長晶爐-钼制品新聞
- 發佈於：29 一月 2014
- 作者 Cloudy
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相對於傳統的磁控濺射系統，電子回旋共振（ECR）濺射系統的特征是在低氣體壓力。R面取向的外延氧化鋅薄膜
是用沉積的R-平面藍寶石襯底上，以產生高密度等離子體的能力射頻磁控管模式的ECR濺射設備。作為測量的結果，該薄膜顯示出良好的取向和優良的有效機電耦合系數（Keff值）為瑞利表面聲波（SAW）和它的高次聲波波。這些耦合因子為大於等於利用有限元方法使用單晶材料常數（FEM）分析的Keff得到的理論值高。
銻同質結發光二極管是由金屬有機物化學氣相沉積（MOCVD ）制作在c面藍寶石。 p型氧化鋅層與空穴濃度1.27 × 1017使用三甲基銻（TMSB）作為銻摻雜源cm-3的制作。器件的電流 - 電壓特性表現出與3.3 V.鮮明的電致發光的紫外線和可見光的排放從該設備在正向偏壓下在室溫下檢測到的導通電壓所希望的整流行為。此外，金屬有機源TMSB是一種有效的和可控制的摻雜劑中的金屬有機化學氣相沉積技術，該技術是適合於進一步的工業化生產。
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