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通過在玻璃和藍寶石襯底鋅金屬的熱氧化生長的氧化鋅紫外探測器

已經調查多晶氧化鋅生長在玻璃和c-平面藍寶石襯底上薄膜的光學和結構特性。其中在室溫下與空氣中的隨後的熱退火溫度為300℃和600 ℃下通過直流濺射沉積生長在玻璃和藍寶石襯底的鋅金屬膜X-射線衍射譜表明，在退火後，所得到的氧化鋅薄膜具有多晶纖鋅礦結構沒有擇優取向。室溫光致發光（ PL）光譜表明，在退火300℃薄膜具有最強的紫外線（UV ）輻射強度和最低的深層次的排放。增加深層次的綠色發光，觀察隨退火溫度為生長在玻璃襯底片，和一個紅移的激子紫外波段觀察到生長在藍寶石襯底片。基於氧化鋅的金屬 - 半導體 - 金屬（MSM）的UV光電探測器，其中通過對所得到的氧化鋅薄膜的鋁歐姆接觸濺射澱積制造。減小光電流被看作用於提高退火溫度，這是用PL研究是一致的。

在這項工作中的氮化鎵上各種圖案的基板高壓溶液生長的結果，圖案上的氮化鎵平行條紋和條紋之間SixNy和鉬口罩的氮化鎵 /藍寶石襯底上生長進行了研究和分析。結果與圖案襯底上生長沒有任何遮罩，從而與條紋之間的裸藍寶石相比。鎢和銥為掩蔽的有用性也被確定。該HVPE自由站立氮化鎵襯底的高條紋，達到10毫米，被檢查的詳細信息。條紋生長方式示出和描述。


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