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在1450 ℃下在藍寶石襯底上的無裂紋的氮化鋁範本層由氫化物氣相外延製備

無裂紋的氮化鋁範本層上生長在1450 ℃下使用在1065 ℃下通過氫化物氣相外延（ HVPE生長的薄（100nm）的保護性的氮化鋁層藍寶石襯底） 。全寬度的透視半最大值（FWHM）值的搖擺曲線（ XRCs ）為平面上的AlN層的分別為378和580弧秒，分別。觀察到在薄保護氮化鋁層和加熱到1450 ℃，在藍寶石襯底，由於藍寶石的分解反應之間的介面上形成空隙空隙放鬆的拉伸應力在氮化鋁層，從而導致裂紋的抑制。

使用一種新型的超高真空傳輸電子顯微鏡（TEM ） ，在原位反應的分子束外延系統中，報告當暴露於氨的藍寶石表面成功地合成外延氮化鋁的。在基板電子透明的藍寶石箔，進行退火處理中氧在高溫下，以消除製備過程中引起的損壞，並創建大型原子級平坦的區域。然後將樣品在950℃下在流動的氨氣在顯微鏡內的期間內的微觀結構的發展週期觀察結果2小時保持。我們之前和之後氮化報告直接觀察形成氮化鋁外延與取向關係的氮化铝/ /次，氮化鋁/ /子和現在兩個透射電子顯微鏡和原子力顯微鏡對樣品的圖像。結果是用擴散限制反應模型，通過在自由表面和未反應的α -氧化鋁之間的生長氮化鋁外延層包括氧和氮離子的運輸是一致的。


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