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異質外延的氧化鋅薄膜和離軸射頻磁控濺射氧化鋅/（鎂，鋅）納米多層膜的生長

使用離軸射頻磁控濺射異質外延氧化鋅薄膜沉積在一個藍寶石襯底上。該氧化鋅薄膜的結晶度受到沉積壓力，襯底溫度，以及後續退火溫度。異質外延氧化鋅薄膜生長為650℃，120W，和10m最佳條件下的低溫光致發光顯示出強烈的紫外線輻射在3.36eV與半高16.0meV的（FWHM）全寬。退火在O2氣氛中在950℃後，在高解析度的x射線衍射搖擺的氧化鋅薄膜的曲線FWHM明顯從0.38°減小到0.19°雖然紫外線輻射降低。這些結果表明，一個異質外延氧化鋅薄膜具有很強的紫外發光可以通過離軸射頻濺射生長而有助於提高氧化鋅薄膜可以用來作為緩衝層中的氧化鋅 /結晶（鎂，鋅）多量子阱結構。為了證明氧化鋅薄膜的應用，用氧化鋅/（鎂，鋅）納米多層膜生長上的氧化鋅緩衝藍寶石基板，測定其光學性能。

氧化鋅薄膜的大氣壓鹵化物氣相外延生長在藍寶石襯底上。雙晶X射線衍射研究表明，半高的六角形氧化鋅線的最小全寬後1212 S表示存放在1023 K。影片中的室溫光致發光光譜顯示紫外輻射在381.0納米，由於重組自由激子。


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