鉬濺射靶材的應用
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- 分類:钼的知識
- 發佈於:08 三月 2017
- 作者 qiongzhen
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鉬濺射靶材,即鉬靶材,通常由鉬粉經燒結而成。鉬濺射靶材可在各類基材上形成薄膜,這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產品。隨著平面顯示器行業和光伏行業的迅速發揮發展,鉬濺射靶材的需求量越來越大。以下討論鉬濺射靶材在各行業中的應用。
1)在電子行業中,鉬濺射靶材主要應用於平面顯示器、薄膜太陽能電池的電極和配線材料以及半導體的阻擋層材料。
2)在平面顯示器行業中,鉬濺射靶材的主要市場應用之一是TFT—LCD領域。
3)在新能源行業中,鉬濺射靶材在薄膜太陽能光伏電池上的應用也與日俱增, 鉬濺射靶材通過濺鍍形成CIGS(銅銦鎵硒)薄膜電池電極層。
鉬濺射靶材
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