高純鉬濺射靶材的發展現狀
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- 分類：钼的知識
- 發佈於：06 三月 2017
- 作者 qiongzhen
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隨著電子及信息產業的突飛猛進的發展，對濺射靶材的需求越來越大。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質、平面顯示以及光伏電池等方面都得到了廣泛的應用。因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料的需求逐年增加，而且對其技術指標的要求也在不斷的提升中。高純鉬濺射靶材是鉬行業的新興、高端產品，要求產品密度大、純度高、組織均勻且生產工序長，具有很高的技術含量，能滿足現有的濺射靶材的基本要求。該領域之前一直被奧地利的普蘭西（Plansee）、德國的H.C斯達克（H.C Starck）和賀力氏（Heraeus）、日本的日立金屬（Hitach Metal）等國際巨頭所壟斷。直至2012年我國某公司生產的太陽能成套高純鉬濺射靶材的成功交付，才打破國外巨頭在該領域的相對壟斷地位。但是，其所達到的技術指標與國際領先的水平依然有差距。
根據高純鉬濺射靶材的研究現狀，可知國內高純金屬的提純技術與工業發達國家的差距較大，目前國內提供的多數高純金屬，按照行業常規的全元素分析方法，還不能滿足薄膜濺射技術對濺射靶材的質量要求。靶材中夾雜物的數量過多或分布不均，在濺射過程中常在晶圓上形成微粒，導致濺射厚度不均勻或濺射效率較低，嚴重影響薄膜性能。因此對於國內而言，發展高純的鉬濺射靶材任重而道遠。
總之，平面顯示器和光伏行業的快速發展，極大地帶動了高純鉬濺射靶材的市場需求量。但是怎樣解決目前高純鉬濺射靶材制作過程中存在的大尺寸鉬濺射靶材難以制備，靶材利用率較低、濺射過程中的微粒飛濺等問題，為國內外用戶提供高質量的濺射靶材，是擺在國內材料工作者面前的現實問題。因此，提高我國高純鉬濺射靶材的產業競爭力，需要國家高度的重視並采取合理措施，如相應的政策支持、重視人才的培養和設備的更新換代以及加強其基礎和應用研究等。
高純鉬濺射管靶材
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