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一種管狀鉬合金濺射靶材的熱等靜壓制備方法

鉬合金濺射靶材具有高溫強度，良好的導電、導熱和低的熱膨脹系數（與電子管用玻璃相近）外，還擁有較鎢易於加工的優勢，因此常制成各種不同規格的合金濺射靶材，如板狀鉬合金濺射靶材、管狀鉬合金濺射靶材、圓型鉬合金濺射靶材等。以下介紹一種管狀鉬合金濺射靶材的熱等靜壓（Hot Isostatic Pressing，簡稱HIP）制備方法。熱等靜壓技術優點在於集熱壓和等靜壓的優點於一身，成形溫度低，產品致密，性能優異，故是高性能材料制備的必要手段。其制備的具體步驟如下：

1）根據所要制備的管狀鉬合金濺射靶材的設計要求制作熱等靜壓包套；
2）將鉬合金粉末裝入熱等靜壓包套中；
3）將步驟2中裝有鉬合金粉末的熱等靜壓包套的抽氣口連接真空泵，然後置於馬弗爐中，在真空度不大於5×10²Pa，溫度為150℃～400℃的條件下真空熱處理0.5h～4h，自然冷卻後焊封抽氣口將芯材套裝熱等靜壓包套內，然後進行熱等靜壓成型；
4）將芯材套裝熱等靜壓包套內，然後進行熱等靜壓成型，隨爐冷卻後去除芯材，從熱等靜壓包套中取出成型產品，得到管狀鉬合金濺射靶材。

該方法制得的管狀鉬合金濺射靶材工藝簡單，材料種類和合金成分幾乎不受限制，它的成分均勻、無可見偏析，鈀管與襯管之間結合緊密，晶粒細小、純度高，能夠滿足液晶顯示和觸控屏行業要求。

管狀鉬合金濺射靶材

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