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TZM合金的抗氧化性能

TZM合金具有良好的高溫力學性能，但是在高溫下其抗氧化性能極差，無法生成保護自己的氧化層，因此在高溫下必須在無氧化的氣氛中使用。當溫度低於400℃，TZM合金的氧化速率很慢，合金表面生成了不易揮發的MoO₂。當溫度在400~750℃之間，氧化速率變快，合金表面生成易揮發的MoO₃。當溫度高於750℃，由於MoO₃揮發，氧化增重急劇下降。

改善合金抗氧化性能的方法通常有兩種，一種是合金化法，另一種是塗層法。合金化不能提供足夠的高溫抗氧化性能，因而較為常用的方法為塗層法。

塗層有許多的製備工藝，其中包埋滲法具有成本低、易於控制、結合力強等優點，因而被廣泛應用。採用包埋滲法對TZM合金進行塗層，一般選擇Al粉為塗層材料，以NH₄Cl為催化劑、Al₂O₃為填料。其中塗層生長的最佳工藝參數為tm（Al₂O₃）：m（Al）：m（NH₄Cl）=7:2:1,1000℃，12h。

通過觀察XDR結果發現，塗層由Al₅Mo、Al₂Mo和Al₂（Mo₄）₃等相組成，靠近基體塗層的厚度約為30um，且平均Al含量較低。外層塗層厚度約為20um，平均Al含量較高。TZM合金在塗層的保護下，操作的10h內，氧化速率非常快。10~50h內，氧化速率組件變緩，因為反應生成的Al₂O₃層具有較好的保護作用，能夠防止氧化進一步發展。說明，塗層法可以很好的提高合金的抗氧化性能。

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