鉬靶材的應用
- 詳細內容
- 分類：钼的知識
- 發佈於：28 十二月 2012
- 作者 jinfeng
- 點擊數：728
濺射靶材用於磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。
在 被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子， 靶上加有一定的負高壓，從靶極發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶 面， 以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片澱積成膜。
濺射鍍膜的主要應用於：平板顯示器、鍍膜玻璃工業(主要包括建築玻璃、汽車玻璃、光學薄膜玻璃等)、薄膜太陽能、 表面工程(裝飾&工具)、（磁、光）記錄介質、微電子、汽車車燈、裝飾鍍膜等。 可以根據用戶的要求提供以下尺寸的鉬濺射靶材:
板靶材: 單重:≤200kg/pc, 純度:≥99.95%
管靶材: 長度:≤Φ165mmΧ1000mm ,純度:≥99.95%
鉬產品詳情查閱：http://www.molybdenum.com.cn
訂購電話：0592-5129696 傳真：0592-5129797
電子郵件：
Email住址會使用灌水程式保護機制。你需要啟動Javascript才能觀看它
鎢新聞、價格手機網站：3G版：http://3g.chinatungsten.com
鎢新聞、價格手機網站：WML版：http://m.chinatungsten.com
sales@chinatungsten.com