鉬濺射靶材製備工藝
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- 分類：钼的知識
- 發佈於：09 三月 2017
- 作者 qiongzhen
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隨著全世界平面顯示器需求不斷成長的趨勢下，濺射靶材的需求也隨之成長。鉬濺射靶材由於高熔點、高電導率、較低的比阻抗、較好的耐腐蝕性以及良好的環保性能，使得鉬濺射靶材可在各類基材上形成薄膜，這種濺射薄膜廣泛應用於電子部件和電子產品中。製備鉬濺射靶材的具體步驟包括以下幾個步驟：
1）選取高純度鉬粉；
2）將鉬粉壓制成鉬柸料；
3）將鉬柸料置於高溫爐內進行預燒結得到預燒結坯；
4）將預燒結坯置於高溫爐內進行燒結，得到高純鉬金屬坯；
5）將高純鉬金屬坯送入馬弗爐中加熱，然後對加熱後的高純鉬金屬坯進行壓力加工，得到鉬板；
6）將鉬板加熱，冷卻後進行機械加工；
7）將經機械加工後的鉬板清洗乾淨，與金屬背板綁定，得到鉬濺射靶材。
這種製備方法在低壓力下進行預燒結，能夠降低雜質熔點，為雜質的揮發創造條件，能夠有效的去除材料中的氣體元素及低熔點雜質，顯著提高了鉬濺射靶材的純度，保證了濺射品質。
鉬濺射靶材
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