ICP - AES 法測定鉬鐵中Mo ,Si ,Cu ,Sb ,Sn的干擾實驗
- 詳細內容
- 分類：钼的知識
- 發佈於：20 十月 2015
- 作者 xinyi
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干擾試驗
通常鉬鐵中各元素的品質分數:Si ,Sn ,Sb ,Cu< 1 %;Mo 50 %～70 %; Fe 30 %～50 %。為直接同時測定試樣中基體和微量雜質元素,根據含量範圍和共存元素間譜線干擾情況 ,初選了各元素的分析譜線。分別用5μg/ mL 的Si ,Sn ,Sb ,Cu標液、24 個元素混合標液以及1mg/ mL 的純鉬、純鐵標液對各元素分析譜線進行描跡。從掃描獲得的各分析譜線局部光譜圖(如圖1) 可見:在Sn ,Sb ,Cu 的分析譜線積分視窗內,基體元素Mo , Fe均不產生波峰,因其強度信號為平直直線,雖略高於微量元素分析譜線的背景基線,採用同步背景校正可消除對其雜質元素測定的影響;Mo 分析線不受Fe 和其他雜質元素的影響;待測雜質元素純標液和混合元素標液掃描峰位元重合一致,這20幾種可能共存的元素對測定無影響;雖然Mo 在Si 的288.156nm 兩側均產生波峰,但能與Si 線的積分測定區域清晰分開,且因同時準確測定了Mo 的含量,採用K 係數(干擾因數校正) 法結合同步背景校正(需延伸Si 線積分視窗寬度,避開Mo 波峰,在其基線較平直處選擇扣背景點) 來消除鉬的影響。
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