鉬濺射靶材的簡介
- 詳細內容
- 分類：钼的知識
- 發佈於：24 一月 2013
- 作者 CCJ
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我們擁有熱軋機和冷軋機，可以提供鎢，鉬靶材厚度爲0.2毫米至20毫米。具有非常好的性能，這些産品可用于生産電極，加熱器，屏蔽件等。
鉬濺射靶材又稱鉬靶材，可用于常用的X射綫管的X射綫屏蔽。
鉬濺射靶材，即鉬靶材，通常由鉬粉經燒結而成。多數情况下，它是由陽極本身就是燒結鉬粉製成，目標是由陽極所形成的。陽極可以是固定式或旋轉陽極。其他的標準方法，化學氣相沉積，或者再次，當焦點在一個旋轉陽極的情况下，電解沉積啓用了鉬層沉積在陽極，沿著一條軌道，以形成對整個陽極表面或表面上這個目標的一部分。
鉬濺射靶材
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材料 |
純度 |
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鉬濺射靶材 2"D X .125"T |
99.95% |
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鉬濺射靶材 2"D X .250"T |
99.95% |
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鉬濺射靶材"D X .125"T |
99.95% |
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鉬靶材3"D X .250"T |
99.95% |
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鉬靶材 4"D X .125"T |
99.95% |
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鉬靶材 4"D X .250"T |
99.95% |
其它尺寸也可。
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