解決鉬低溫延性和高溫氧化的主要途徑
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- 分類:钼的知識
- 發佈於:03 七月 2014
- 作者 ling
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解決鉬的低溫延性和高溫氧化問題的主要途徑就是開發一種以二矽化鉬(MoSi2)為基的先進複合材料。
鉬與氧接觸形成的Mo02在800℃昇華,冷凝時得到一種黃白色的翳狀物,給發揮鉬在高溫強度和抗蠕變性能上的優勢造成了嚴重的工程問題。為此採用了有自愈能力的富矽塗層,然而這種塗層抗熱循環效應的能力極差。而以二矽化鉬作基體的複合材料Mo-Si-B的高溫強度和抗氧化能力極好,但延性差,僅限生產小批量商用產品。為解決延性問題,確定了這種鉬—矽—硼系複合材料的組成範圍,使之除抗氧化性能奇佳外,高溫機械性能與TZM合金相當。該複合材以Mo5SiB(T2)為基體相,以金屬鉬為第二相。金屬相提高了複合材料的延性,基體相可形成自愈性的氧化皮。目前製成的同時加入鈦的Mo-6Ti-2.2Si-1.1B複合材料在1370℃下暴露在空氣中2小時,肉眼幾乎看不到變化,較之TZM還要優越。這是鉬基合金一項了不起的成就。
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